黄仁勋：中国2030搞定国产先进光刻

黄仁勋在All-In判断中国2030年做出先进光刻系统，较蔡司半导体负责人罗蒙德“国产EUV尚需约15年”乐观。蔡司是ASML EUV光学核心供应商，口径锁定EUV；主持人问advanced lithography systems，黄仁勋也未限定EUV，错位比时间点更关键。

国产光刻已进入产线验证：宇量昇DUV在中芯国际、华为产线测试，年底目标12台；上海艾晟纳计划2026年产5台、2027年20台，交付中芯、华虹、长鑫，华为被Bernstein视为项目“管理者”。三星同期联手ASML推进High-NA EUV。黄仁勋的乐观，是算力需求侧对制造瓶颈与供应链多极化的提前定价。